High-Kmaterial의 필요성
Thin SiO2의 문제점
게이트 유전막을 통한 boron penetration
20Å 미만의 두께에서
leakage current 발생
poly-si depletion effect
해결
SiO2에 비해 큰 유전상수
물리적 두께 증가
전자의 터널링 억제
Motivation
High Density
- More transistors onto a smaller chip
- Cost effective from
를 포함하는 거친 roughness로 인하여 OLED Panel 양산제조시 발생하는 Leakage Current 현상의 부작용이 문제가 되어 이를 보완해주기 위한 방법으로 정공 주입층 재료의 두께가 100nm정도로 두껍게 요구됨에 따라 두꺼운 두께에서도 lm/w단위의 고효율이 유지될 수 있는 신규 재료가 매우 절실히 필요되고 있다.
를 exciton이라고 하며, 이것은 고에너지를 가진 한 개의 분자처럼 행동한다. Exciton은 exciton lifetime period이후에 빛을 방출하게된다.(그림.1). 그림2는 구조를 개략적으로 그린것으로 그림2를 반시계방향으로 90도 회전 시키면 그림1과 같다
방출된 빛의 파장은 exciton energy 와 부합하기 때문에 색중심의 분자
석유, 석탄, 천연가스 등의 화석에너지 자원들은 고갈되고 있고, 시대가 지나면서 에너지 문제의 중요성은 더욱 증가되어 에너지 안보 문제가 심각하다. 우리나라는 2009년도 기준 에너지 해외 의존도가 약 96.2%로 세계 에너지 시장의 변화에 취약한 구조를 가지고 있다. 특히 중동 지역의 의존도가 2008년
[1]초전도 재료 (superconducting materials)
어떤 임계온도에서 전기 저항이 완전히 없어지는 현상을 초전도 라 한다.
이러한 거동을 나타내는 재료를 초전도 재료라 한다.
(1)초전도 상태
수온(Hg)와 온도 저하에 따라 전기 저항이 감소하다가 4.2K에서는 영이다.
이 점은 온도를 임계온도 Tc라 한다. 이 임
가능한 RW(Rewritable)가 있으며, 이들을 컴퓨터 등의 정보나 프로그램의 기억에 응용하여 정보를 기록하는 방식에 따라 상변화(Phase-Change : PC)형 광 메모리, 광 자기(Magneto-Optical : MO)형 광 메모리, 홀로 그래픽(Holographic) 광 메모리, 홀버닝(Persistent Spectral Hole-Burning : PSHB) 광 메모리 등으로 구분할 수 있다.
소자이며, 시간이 지나가면 축적된 전하가 감소되기 때문에 전원이 차단되지 않더라도 저장된 자료가 자연히 소멸되는 단점이 있다. 따라서 일정 시간마다 기억된 자료를 유지하기 위하여 리프레시(refresh)가 필요하며, 이를 위한 제어회로가 시스템측에 탑재되어야 한다. 반면에 전력 소모가 적고, 가
Ⅰ. 서 론 (introduction)
1. 서 론
단순한 기호 식품을 넘어 거대한 시장을 형성하고 있는 커피는 자판기 커피에서부터 커피전문매장의 로고가 찍힌 테이크아웃 커피까지 이미 우리 실생활에서 쉽게 접할 수 있는 생활 음료가 되었다. 이제는 소비자들이 단순히 커피를 구입하는 것에서부터 직접 만
를 지지해주는 부분입니다.
Anode는 전류가 흐를 때 전자를 제거하여 정공(electron Holes)을 만드는 역할을 합니다. 그리고 그 위에 있는 Conducting Layer 이 층이 바로 Anode에 의해 영향을 받아 정공(Electron Holes)이 생성되는 곳입니다.
Emissive Layer의 경우에는 Cathode에서 전자를 받아 들이는 역할을 하는 층이며
를 나타내었다. 2008년 세계 반도체시장은 대체로 D램 시장이 큰 폭으로 감소하였고, 낸드플래시도
자료 : KOTIS, 2009. 5
[그림 4-1] 년도별 반도체 시장규모
크게 둔화 추세를 나타내었다.
메모리 반도체의 경기는 공급 축소로 다소 하락세가 둔화되었지만, 수요의 뚜렷한 성장요인이 없었기 때문에 전